Messehighlight 24. April 2024

Vakuumsysteme mit IBAD, IBS und PECVD Technologien

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VAKUUMSYSTEME MIT IBAD, IBS UND PECVD TECHNOLOGIEN
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IBAD Systeme
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IBS Systeme
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Optical DLC system
ORTUS
IONENSTRAHLUNTERSTÜTZTE AUFDAMPFUNG (IBAD) SYSTEM
Die ORTUS Serie ist eine Familie von Beschichtungsanlagen, die auf der Technologie der Elektronenstrahlverdampfung mit Ionenunterstützung basieren. Von der kompakten Ortus 700 bis zur größten Ortus 1500 kann unsere ORTUS Beschichtungsanlagenserie mit einer Vielzahl von Optionen konfiguriert werden, die zur Herstellung von hochdichten ionenstrahlunterstützten Beschichtungen unter stabilen Bedingungen erforderlich sind. Unser selbstentwickeltes, vollautomatisches optisches Überwachungssystem, OCP SingleWave und OCP BroadBand, ermöglicht die Echtzeitoptimierung des optischen Beschichtungsprozesses und -designs und bietet eine Automatisierung komplexer Filterbeschichtungen mit höchster Genauigkeit und Wiederholbarkeit.

LIDIZ
IONENSTRAHLSPUTTER (IBS) SYSTEM FÜR ULTRAPRÄZISE OPTIK
Die Beschichtungsanlagen der LIDIZ Serie sind das Ergebnis und die Verkörperung von 50 Jahren Erfahrung in der Ionenstrahl-Sputtertechnologie (IBS). Die IBS-Technologie ist bekannt für ihre extrem verlustarmen optischen Beschichtungen. Die LIDIZ IBS Anlage ist eine Produktionsanlage zur Abscheidung von optischen Beschichtungen für eine Vielzahl von Anwendungen. Die LIDIZ ist mit einer RF-Gitter-Ionenstrahl-Sputterquelle, und einer zusätzlichen RF-Gitter-Ionenstrahlquelle für die Vorreinigung von Substraten, die Oberflächenaktivierung, die Sputterunterstützung mit RF-Neutralisatoren ausgestattet.

DIAMANTA
VAKUUMSYSTEM MIT PECVD TECHNOLOGIE
Die Beschichtunsanlage der DIAMANTA Serie ermöglicht die Abscheidung von verschleißfesten diamantähnlichen Kohlenstoff (DLC) Beschichtungen auf Silizium- und Germaniumsubstraten vorgesehen. DLC Beschichtungen sind im IR-Bereich bei 3-5 µm und 7-14 µm antireflektiv. Die Abscheide-Methode erfolgt durch die chemische Abscheidung von Kohlenstoff aus der Gasphase, angeregt durch ein Plasma aus der Ionenstrahlsputterquelle.